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產(chǎn)品列表
  • ALD原子層沉積系統(tǒng) 原子層沉積(ALD)系統(tǒng)是一種用于在基板表面沉積超薄膜的精密設(shè)備,具有原子級別的厚度控制能力。ALD系統(tǒng)通常用于半導(dǎo)體制...
  • 1500℃單溫區(qū)3路質(zhì)... 1500℃單溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控...
  • 雙溫區(qū)CVD系統(tǒng) 雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)由1200℃雙溫區(qū)管式爐、雙通道質(zhì)量流量計和低噪音雙極旋片真空泵組成。雙溫區(qū)CVD系統(tǒng)管式爐的兩個溫區(qū)分...
  • 激光鍍膜設(shè)備 激光鍍膜設(shè)備系統(tǒng)由真空腔室(主濺射室、進樣室)、樣品傳遞機構(gòu)、樣品架、旋轉(zhuǎn)靶臺、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算...
  • 1200℃三溫區(qū)3路質(zhì)... 1200℃三溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密...
  • 晶圓級大尺寸二硫化鉬制... 晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設(shè)備包括三溫區(qū)管式爐,特殊設(shè)計的爐管及配套氣路一組,晶圓級大尺寸二硫化鉬制備CVD設(shè)備通過...
  • 1500℃單溫區(qū)3路質(zhì)... 1500℃單溫區(qū)3路質(zhì)量流量計高真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密...
  • 1500℃單溫區(qū)3路浮... 1500℃單溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐由精密控...
  • 1200℃雙溫區(qū)3路浮... 1200℃雙溫區(qū)3路浮子供氣低真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密...
  • 小型粉末PVD包覆系統(tǒng) 小型粉末PVD包覆系統(tǒng)是一款小型粉末包覆系統(tǒng),主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。小型粉末PVD包覆系統(tǒng)粉末在振動樣...
  • 迷你石墨烯CVD設(shè)備 迷你石墨烯CVD設(shè)備專為石墨烯生產(chǎn)設(shè)計配有高精度質(zhì)量流量計以及薄膜真空規(guī)。迷你石墨烯CVD設(shè)備同時設(shè)備配有可燃氣體檢測裝...
  • 1200℃雙溫區(qū)3路質(zhì)... 1200℃雙溫區(qū)3路質(zhì)量供氣低真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和雙極旋片真空泵組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密...
  • R-PECVD?真空旋... R-PECVD真空旋轉(zhuǎn)等離子增強CVD設(shè)備由旋轉(zhuǎn)及傾斜機構(gòu)、單溫區(qū)管式爐、等離子發(fā)生機構(gòu)、質(zhì)量流量計供氣系統(tǒng)、高真空分子...
  • 派瑞林真空氣相沉積 派瑞林真空氣相沉積是一種專業(yè)的產(chǎn)品,用于在材料表面上制備薄膜。它采用了在真空環(huán)境中使用氣相化學(xué)反應(yīng)來沉積薄膜的先進過程。...
  • 1200℃雙溫區(qū)3路質(zhì)... 1200℃雙溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密...
  • 1500℃單溫區(qū)3路浮... 1500℃單溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由1500℃單溫區(qū)管式爐、三路浮子流量計和高真空分子泵組組成。管式爐由精密控...
  • 電子束蒸發(fā)鍍膜儀 電子束蒸發(fā)鍍膜儀系統(tǒng)主要由蒸發(fā)真空室、E型電子槍、熱蒸發(fā)電極、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安...
  • 1200℃三溫區(qū)3路質(zhì)... 1200℃三溫區(qū)3路質(zhì)量供氣高真空CVD系統(tǒng)由三溫區(qū)管式爐、三路質(zhì)量流量計和高真空分子泵組組成。管式爐三個溫區(qū)分別由精密...
  • 1200℃高真空迷你C... 1200℃高真空迷你CVD設(shè)備核心是一款迷你管式爐,采用電阻絲加熱。1200℃高真空迷你CVD設(shè)備包含一臺三路浮子流量計...
  • 1200℃雙溫區(qū)3路浮... 1200℃雙溫區(qū)3路浮子供氣高真空CVD系統(tǒng)由雙溫區(qū)管式爐和三路浮子流量計組成。管式爐兩個溫區(qū)分別由精密控溫儀表獨立控溫...
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