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產(chǎn)品名稱(chēng)：電子束蒸發(fā)鍍膜
產(chǎn)品型號(hào)：CY-EVP500-EB
產(chǎn)品廠(chǎng)商：成越科儀
產(chǎn)品文檔：

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簡(jiǎn)單介紹：

該設(shè)備以電子束蒸發(fā)方式鍍膜設(shè)備，主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預(yù)處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜。

詳情介紹：

設(shè)備技術(shù)參數(shù)

使用條件

環(huán)境溫度5℃～40℃ 電源：三相380 V,功率：≤20 KW，水壓：≤2.5bar

真空室尺寸

蒸發(fā)室尺寸：φ500×H500(㎜)

電子槍

新型電子槍1套，6穴坩堝

樣品轉(zhuǎn)盤(pán)

樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉(zhuǎn)，也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶(hù)要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃

系統(tǒng)真空度

極限真空

經(jīng)12～24小時(shí)烘烤，連續(xù)抽氣≤5x10^-5Pa

抽氣速率

從大氣開(kāi)始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10^-4Pa

系統(tǒng)漏率

整機(jī)漏率≤1×10^-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后，測(cè)量真空室真空度≤10Pa

抽真空系統(tǒng)

FB1200分子泵+機(jī)械泵(TRP-36)系統(tǒng)，并設(shè)置旁路抽氣

鍍膜監(jiān)測(cè)

采用SQM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測(cè)

鍍膜厚度

鍍膜厚度的不均勻度≤6%

相關(guān)產(chǎn)品

使用條件	環(huán)境溫度5℃～40℃ 電源：三相380 V,功率：≤20 KW，水壓：≤2.5bar
真空室尺寸	蒸發(fā)室尺寸：φ500×H500(㎜)
電子槍	新型電子槍1套，6穴坩堝
樣品轉(zhuǎn)盤(pán)	樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉(zhuǎn)，也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶(hù)要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃
系統(tǒng)真空度	極限真空	經(jīng)12～24小時(shí)烘烤，連續(xù)抽氣≤5x10^-5Pa
	抽氣速率	從大氣開(kāi)始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10^-4Pa
	系統(tǒng)漏率	整機(jī)漏率≤1×10^-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后，測(cè)量真空室真空度≤10Pa
抽真空系統(tǒng)	FB1200分子泵+機(jī)械泵(TRP-36)系統(tǒng)，并設(shè)置旁路抽氣
鍍膜監(jiān)測(cè)	采用SQM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測(cè)
鍍膜厚度	鍍膜厚度的不均勻度≤6%

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產(chǎn)品名稱(chēng)：電子束蒸發(fā)鍍膜