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產(chǎn)品分類

可編程勻膠機

全自動加熱旋涂儀勻膠機可將液態(tài)或膠體材料涂覆于硅片、晶體、石英、陶瓷等基材形成薄膜，主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制備、聚合物薄膜的溶膠-凝...
四噴頭超聲波勻膠機旋涂... 四噴頭超聲波勻膠機是一種面向未來的gaoduan微納加工設(shè)備。它解決了傳統(tǒng)勻膠技術(shù)在三維、異質(zhì)集成和昂貴材料應(yīng)用中的根本...
全自動勻膠機旋涂儀全自動勻膠機旋涂儀是一種基于離心力原理的精密涂覆設(shè)備，通過程序化控制基片旋轉(zhuǎn)速度、加速度和時間，實現(xiàn)液體材料（如光刻膠、...
光刻膠烤膠機光刻膠烤膠機在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的光刻工藝中，主要用于光刻膠的烘烤和固化，確保圖案轉(zhuǎn)移的**性和工藝穩(wěn)定性
8英寸晶圓烤膠機 8英寸晶圓烤膠機在半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的光刻工藝中，主要用于光刻膠的烘烤和固化，確保圖案轉(zhuǎn)移的**性和工藝穩(wěn)定性
12英寸聚四氟腔體防腐... 本產(chǎn)品為旋涂儀也稱勻膠機，是利用高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力來涂覆膜料的設(shè)備。本型號采用工業(yè)級大功率伺服電機，可實現(xiàn)更好的穩(wěn)定性...
擺臂勻膠機旋涂儀擺臂勻膠機主要利用離心涂覆原理將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，該工藝在材料研究領(lǐng)域有著廣泛...
全自動勻膠機旋涂儀旋涂儀是一種實驗室設(shè)備，主要用于制備薄膜材料，其應(yīng)用范圍包括制備太陽能電池，制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、聚合物等材料的薄膜...
12寸防腐勻膠機旋涂儀 12寸防腐勻膠機旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基...
亞克力八英寸勻膠機帶蠕... 勻膠機可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法...
凈化旋涂儀帶加熱臺凈化型勻膠機廣泛用于半導(dǎo)體硅片的勻膠鍍膜等，例如對大型晶圓、芯片、晶片等進行工藝制版時，可用此設(shè)備進行各種膠體的表面涂覆...
1000MM勻膠機旋涂... 勻膠機旋涂儀是一種用于制備薄膜的儀器，廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)等領(lǐng)域。它的主要工作原理是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，利用離...
托盤定位勻膠機旋涂儀勻膠機旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠...
PP腔體旋涂儀旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜。主要用于光刻膠旋涂、生物介質(zhì)制備、溶膠-凝膠法制...
不銹鋼腔體勻膠機勻膠機是一種用于制備薄膜的儀器，廣泛應(yīng)用于材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)等領(lǐng)域。它的主要工作原理是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，利用離心力使...
大型勻膠機旋涂儀本設(shè)備為大型勻膠機，采用大功率伺服電機，配合高精度驅(qū)動器，可實現(xiàn)對大尺寸樣品的**勻膠實驗
八英寸聚四氟腔體防腐旋... 勻膠機旋涂儀可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠...
不銹鋼腔體八英寸勻膠機... 勻膠機可以將液態(tài)或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜，主要應(yīng)用于光刻膠旋涂、生物培養(yǎng)基制作、溶膠凝膠法...
全自動多層鈣鈦礦旋轉(zhuǎn)涂... 全自動多層鈣鈦礦旋轉(zhuǎn)涂層機適用于鈣鈦礦材料的涂膜，半導(dǎo)體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝
12寸不銹鋼腔體加熱旋... 旋涂儀是一種實驗室設(shè)備，主要用于制備薄膜材料，其應(yīng)用范圍包括制備太陽能電池，制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、聚合物等材料的薄膜...

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