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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:三源高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號:CY-EVH300-III-HHH-SS
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡單介紹:
三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀應用于金屬和介電膜,薄膜傳感器的制造,光學元件,納米與微電子,太陽能電池.
詳情介紹:

本設(shè)備為三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀,設(shè)備采用前開門式真空腔體設(shè)計,腔體空間大,可拓展性強,能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發(fā)鍍膜。腔體內(nèi)配有上置樣品臺,可根據(jù)用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉(zhuǎn)、水冷,所有操作均通過觸控屏集成控制。設(shè)備的真空泵組為兩級式真空系統(tǒng),由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成,可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環(huán)境;真空系統(tǒng)內(nèi)含有完善的氣動閥系統(tǒng),用戶可通過觸控屏進行一鍵式操作實現(xiàn)抽取真空、不停機取放樣、完全停機等操作。

詳情介紹:

本設(shè)備的蒸發(fā)源共三組,采取鎢舟蒸發(fā)源,水冷式銅電極,加熱溫度*高可達1800℃,可實現(xiàn)多種難熔金屬的蒸鍍,三組獨立熱蒸發(fā)源,不會導致鍍材互相污染。本設(shè)備采用一體化設(shè)計,腔體和電控部分左右分置,實現(xiàn)了水電分離,有力的保證了用戶的**。電控部分采用觸控屏和按鈕面板相結(jié)合的設(shè)計,真空系統(tǒng)、樣品臺等輔助功能通過觸控屏一鍵操作,通電蒸發(fā)、膜厚控制等通過面板獨立操作,在盡可能方便用戶的同時規(guī)避了誤操作的可能。該設(shè)備設(shè)計完善性能優(yōu)越,是實驗室高精度蒸發(fā)鍍膜試驗的必備之選。

三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀應用領(lǐng)域:

金屬和介電膜,薄膜傳感器的制造,光學元件,納米與微電子,太陽能電池.

真空蒸發(fā)鍍膜儀技術(shù)參數(shù):

產(chǎn)品名稱

三源高真空蒸發(fā)鍍膜儀

產(chǎn)品型號

CY-EVH300-III-HHH-SS

樣品臺

尺寸

*大支持φ150mm樣品

功能

可旋轉(zhuǎn),冷卻

蒸發(fā)源

數(shù)量

鎢舟x3

電源

每個蒸發(fā)源配一組獨立電源;三個蒸發(fā)源共三組獨立電源

真空腔體

腔體尺寸

φ300x400mm

觀察窗口

前置φ100mm

腔體材料

304不銹鋼

開啟方式

前開門式

膜厚控制(選配)

晶振式膜厚測量儀,可選多通道膜厚控制儀

真空系統(tǒng)

前級泵

雙極旋片泵

抽氣接口

KF16

次級泵

渦輪分子泵

抽氣接口

ISO160

真空測量

電阻+電離,復合真空規(guī)

排氣速率

機械泵1.1L/s,分子泵 600L/s

極限真空

1.0E-5Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

旋片泵:1.1L/S

控制系統(tǒng)

PLC自動控制

操作界面:觸控屏+操作面板

(觸摸屏可控制沉積過程和快速數(shù)據(jù)輸入;用戶友好 PLC 軟件系統(tǒng),可以通過網(wǎng)絡(luò)更新)

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機尺寸

1200mm X 900mm X 1650mm

整機功率

5kW

整機重量

500kg

豫公網(wǎng)安備 41019702002438號

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