- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
高低溫低氣壓試驗(yàn)箱適用于航空、航天、通信、信息、電子、電氣等領(lǐng)域，將溫度、高度、與可選的濕度相結(jié)合,用于同時(shí)進(jìn)行環(huán)境測試
高低溫低氣壓試驗(yàn)箱技術(shù)參數(shù)：
|
溫度范圍 |
-70℃~+150℃ |
|
溫度波動(dòng)度/均勻度 |
波動(dòng)度：±0.5℃；均勻度：±2℃ |
|
環(huán)境溫度 |
﹤95%RH |
|
冷卻速度 |
平均≥1℃/min |
|
加熱速度 |
平均1℃/min |
|
濕度范圍 |
20%~98%RH |
|
濕度波動(dòng)度/均勻度 |
波動(dòng)度:±2.5℃;均勻度：±3℃ |
|
壓?范圍/精度 |
范圍：50.5KPa~101.5KPa;精度：±5% |
|
壓?控制辦法 |
?法A：1.加熱/冷卻?設(shè)定溫度；2.抽真空?低壓;?法B:1.抽真空?低壓;2.加熱/冷卻?設(shè)定溫度; ?法C:1.加熱/冷卻?設(shè)定溫度同時(shí)抽真空?低壓 |
|
冷卻?式 |
?冷 |
|
加熱?式 |
電? |
|
壓縮機(jī) |
德國博客半封閉制冷系統(tǒng) |
