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本設備為帶偏壓的桌面型單靶磁控鍍膜儀，可用于一般金屬薄膜的制備。設備同時配有偏壓電源，可以用來進行進行濺射前的等離子清洗和濺射過程中施加偏壓。
本套配置采用石英真空腔體，鍍膜過程全向可視，便于實驗的觀察記錄，腔體設計開啟方便，易于清理，十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺，可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手。
單靶磁控鍍膜儀技術參數(shù)：
產品名稱
桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀
產品型號
CY-MSZ180PX-I-DC-Ｑ
樣品臺
外形尺寸
φ100mm
加熱溫度
≦500℃
可調轉速
≦20rpm
磁控靶槍
配一支兩英寸磁控靶，靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm
真空腔體
腔體尺寸
φ180mm X 215mm
觀察窗口
全向透明
腔體材料
高純石英
開啟方式
上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)
前級泵
低噪音雙極旋片泵
分子泵
低噪音大抽速渦輪分子泵
真空測量
復合真空計，量程:10-5~105Pa
抽氣接口
KF16
抽氣接口
KF40
排氣接口
KF16
系統(tǒng)真空
1.0×10-4Pa
供電電源
AC 220V 50/60Hz
抽氣速率
分子泵抽速600L/s，前級泵抽速1.1L/s
電源配置
電源數(shù)量
射頻電源一套
輸出功率500
其他參數(shù)
供電電壓
AC220V,50Hz
整機功率
2kW
整機尺寸
550mm X 350mm X400mm
500W
