產(chǎn)品分類(lèi)
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
石墨烯制備爐的溫度、氣流及真空采用計(jì)算機(jī)控制，其中部分功能也可以采用手動(dòng)控制。計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)控制和顯示所有與生長(zhǎng)有關(guān)的實(shí)驗(yàn)參數(shù)，自動(dòng)保存實(shí)驗(yàn)參數(shù)，給實(shí)驗(yàn)帶來(lái)極大的方便，并提高實(shí)驗(yàn)的**性。
詳情介紹：
石墨烯制備爐的主要技術(shù)參數(shù)：
溫度范圍：室溫~1050度
整機(jī)功率：2.5 kW
末端口為：不銹鋼法蘭接口，外置水冷卻
進(jìn)樣方式為：手動(dòng)
氣體成分有：
Ar：純度99.999%以上，40L，配惰性氣體減壓閥，流量0-1000 sccm；
H2：純度99.999%，40L，配氫氣減壓閥，流量0-200 sccm；
CH4：純度99.999%，40L，配減壓閥，流量0-10 sccm (更大量程可選)；
13CH4：純度99% (1%為12CH4)，10L，配專(zhuān)用減壓閥，流量0~10 sccm (同位素選件)；
該系統(tǒng)的溫度、氣流及真空采用計(jì)算機(jī)控制，其中部分功能也可以采用手動(dòng)控制。石墨烯制備爐采用計(jì)算機(jī)實(shí)時(shí)控制和顯示所有與生長(zhǎng)有關(guān)的實(shí)驗(yàn)參數(shù)，自動(dòng)保存實(shí)驗(yàn)參數(shù)，給實(shí)驗(yàn)帶來(lái)極大的方便，并提高實(shí)驗(yàn)的**性。
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