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產(chǎn)品名稱：PECVD鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào)：CY-PECVD-450T-SS
產(chǎn)品廠商：成越科儀
產(chǎn)品文檔：

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簡(jiǎn)單介紹：

CY-PECVD-450化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過(guò)程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度。適用于在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽(yáng)電池器件，可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

詳情介紹：

技術(shù)參數(shù)：

產(chǎn)品型號(hào)	CY-PECVD-450T-SS
真空腔體	前開(kāi)門(mén)式，φ300mm X 300mm 不銹鋼材質(zhì) 觀察窗：φ100mm 帶擋板
真空泵組	前級(jí)泵：旋片泵抽速1.1L/s 次級(jí)泵：渦輪分子泵抽速600L/s
極限真空度	10^-⁶Pa 三十分鐘內(nèi)可達(dá)到 10^-⁴Pa
沉積真空	0.133~133Pa，可根據(jù)工藝調(diào)整
射頻電源	13.56MHz，500W，自動(dòng)匹配
流量控制	質(zhì)量流量計(jì)，默認(rèn) Ar氣 0~200sccm
整機(jī)尺寸	1100mm x 800mm x1100mm

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